荷蘭ISTEQ公司TEUS系列EUV光源

簡要描述：ISTEQ公司開發了一種基于激光產生等離子體（LPP）的EUV光源。該光源具有ji高的亮度和ji高的穩定性。它采用可自刷新的材料，無需中斷和更換燃料盒，因此持續運行時間極長。
ISTEQ公司為LPP光源開發的燃料是針對特定應用的光譜范圍而設計的。然而，對于掩模檢查的應用，公司開發了一種高頻錫旋轉靶，已在全球范圍內獲得專li。荷蘭ISTEQ公司TEUS系列EUV光源

產品型號：TEUS S-100
更新時間：2025-03-13
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產品分類

Product classification

光譜影像類

雙單色儀光譜儀成像相機及鏡頭光源超連續譜激光器白光光源紅外觀察儀及防護鏡單色儀防曬系數測量儀（SPF）

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產品簡介

品牌	其他品牌	價格區間	10萬-15萬
照射方式	內照式	光源種類	氙燈光源
應用領域	醫療衛生,化工,電子/電池,航空航天,電氣

詳細介紹

荷蘭ISTEQ公司TEUS系列EUV光源

產品介紹：

ISTEQ公司開發了一種基于激光產生等離子體（LPP）的EUV光源。該光源具有ji高的亮度和ji高的穩定性。它采用可自刷新的材料，無需中斷和更換燃料盒，因此持續運行時間極長。

ISTEQ公司為LPP光源開發的燃料是針對特定應用的光譜范圍而設計的。然而，對于掩模檢查的應用，公司開發了一種高頻錫旋轉靶，已在全球范圍內獲得專li。

產品特點：

·高亮度以及出色的穩定性

·最少的碎片

·ji高的正常運行時間

·高占空比和交鑰匙操作

·用戶友好的自動化協議，確保系統平穩運行，沒有中斷的風險。

產品應用：

·掩模和表面檢查：

·圖案掩模檢測 (PMI)

·區域掩模檢測 (AIMS)

·掩模空白檢測 (MBI)

·EUV 掃描儀檢

·材料科學

·晶圓檢查

TEUS 系列激光等離子體光源

型號參數：

型號	TEUS S-100	TEUS S-200	TEUS S-400
激光平均功率100	400
脈沖重頻25或50或100或EUV功率立體角0.05
等離子體尺寸m	60或≤ 4≤ (13.5 nm±2 % @2π·sr or 1.6% @2π·sr
碎片處理系統后角內光通量11 或22 或44 或W/mm2·sr	80或≥≥ 280	310或≥ 3% rms
在10%	不少于4個月	不少于24/7運行狀態下，使用特殊膜過濾器情況下，收集器壽命下降18個月	不少于4個月
維護時間間隔	- 1 天	- 2天	- 1天
***	3個月	5 kW	10.5 kW
尺寸（長×寬×高）1500×1200
重量，包括激光組件770
房間潔凈度等級	10升15升25升/分鐘

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